@MastersThesis{Medeiros:2018:DeFiFi,
               author = "Medeiros, Fabricio Iusuti de",
                title = "Deposi{\c{c}}{\~a}o de filmes finos de Cr e Cr-N via descarga 
                         h{\'{\i}}brida de pulveriza{\c{c}}{\~a}o cat{\'o}dica e 
                         implanta{\c{c}}{\~a}o i{\^o}nica por imers{\~a}o em plasma",
               school = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
                 year = "2018",
              address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
                month = "2018-03-02",
             keywords = "Pulveriza{\c{c}}{\~a}o cat{\'o}dica, catodo oco, 
                         implanta{\c{c}}{\~a}o i{\^o}nica por imers{\~a}o em plasma, 
                         ionized PVD, hollow cathode discharge, plasma immersion ion 
                         implantation.",
             abstract = "Neste trabalho, um sistema h{\'{\i}}brido que associa 
                         implanta{\c{c}}{\~a}o i{\^o}nica por imers{\~a}o em plasma, 
                         descarga secund{\'a}ria de catodo oco e pulveriza{\c{c}}{\~a}o 
                         cat{\'o}dica (magnetron sputtering) foi utilizado para a 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o de filmes de Cr e Cr\$_{x}\$N\$_{y}\$. 
                         Para a ruptura da descarga secund{\'a}ria, pulsos de alta 
                         tens{\~a}o negativa foram aplicados no substrato e em um tubo 
                         met{\'a}lico de a{\c{c}}o inoxid{\'a}vel posicionado entre o 
                         alvo e o substrato, gerando um plasma secund{\'a}rio de catodo 
                         oco de alta densidade em seu interior. Parte das 
                         part{\'{\i}}culas pulverizadas pelo magnetron sputtering que 
                         atravessam o plasma da descarga secund{\'a}ria {\'e} ionizada, 
                         semelhante a um processo de PVD ionizado (iPVD), e os 
                         {\'{\i}}ons s{\~a}o implantados durante o crescimento do filme. 
                         Filmes met{\'a}licos e cer{\^a}micos (Cr e 
                         Cr\$_{x}\$N\$_{y}\$) foram produzidos neste sistema. A 
                         influ{\^e}ncia da descarga secund{\'a}ria na qualidade dos 
                         filmes foi avaliada com a aplica{\c{c}}{\~a}o de diferentes 
                         valores de tens{\~a}o no tubo, assim como diferentes 
                         propor{\c{c}}{\~o}es de nitrog{\^e}nio na mistura gasosa 
                         precursora. Os resultados de microscopia de for{\c{c}}a 
                         at{\^o}mica e microscopia eletr{\^o}nica de varredura 
                         apresentaram diferentes morfologias e rugosidades superficiais 
                         influenciadas pela propor{\c{c}}{\~a}o de nitrog{\^e}nio na 
                         mistura gasosa precursora. Os ensaios de scratch test e 
                         indenta{\c{c}}{\~a}o Rockwell C mostraram que o aumento da 
                         tens{\~a}o negativa pulsada aplicada ao sistema resulta em maior 
                         ader{\^e}ncia dos filmes no substrato, tanto para os filmes de 
                         Cr\$_{x}\$N\$_{y}\$ quanto para os filmes de cromo puro. Em 
                         compara{\c{c}}{\~a}o aos filmes depositados sem descarga 
                         secund{\'a}ria, os filmes depositados pelo sistema proposto 
                         apresentaram menor densidade de defeitos superficiais, maior 
                         resist{\^e}ncia ao desgaste e maior ades{\~a}o ao substrato. 
                         ABSTRACT: In this work, a hybrid system that associates plasma 
                         immersion ion implantation, secondary hollow cathode discharge and 
                         magnetron sputtering was used for Cr and Cr\$_{x}\$N\$_{y}\$ 
                         thin films deposition. For the rupture of secondary discharge, 
                         negative high voltage pulses were applied to the substrate and in 
                         a stainless steel tube positioned between the target and the 
                         substrate, generating a high-density plasma inside it. Some of the 
                         vaporized particles by the magnetron sputtering that pass through 
                         the secondary discharge are ionized, similarly to an ionized PVD 
                         process (iPVD), and the ions are implanted during the film growth. 
                         Metallic and ceramic films (Cr and Cr\$_{x}\$Ny) were produced 
                         in this system, respectively. The influence of secondary discharge 
                         on the quality of the films was evaluated with the application of 
                         the different voltage values in the tube, as well as different 
                         nitrogen proportions in the precursor gas mixture. The results of 
                         atomic force microscopy and scanning electron microscopy showed 
                         different morfologies and surface roughness influenced by the 
                         nitrogen proportion in the gas mixture. The scratch tests and 
                         Rockwell C indentation tests showed that the increase in the 
                         pulsed negative voltage applied to the system results in high 
                         adhesion of the films on the substrate, both for 
                         Cr\$_{x}\$N\$_{y}\$ and pure chromium films. In comparison to 
                         the films deposited without secondary discharge, the films 
                         deposited by the proposed system presented lower surface defect 
                         density, higher wear resistance and higher adhesion to the 
                         substrate.",
            committee = "Mello, Carina Barros (Presidente/Orientadora) and Oliveira, 
                         Rog{\'e}rio de Moraes (Orientador) and Ueda, Mario and Silva 
                         Sobrinho, Argemiro Soares da",
         englishtitle = "Deposition of Cr and Cr-N thin films by means of magnetron 
                         sputtering hybrid discharge and plasma immersion ion 
                         implantation",
             language = "pt",
                pages = "143",
                  ibi = "8JMKD3MGP3W34P/3QHNUS2",
                  url = "http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP3W34P/3QHNUS2",
           targetfile = "publicacao.pdf",
        urlaccessdate = "03 maio 2024"
}